4、物理气相沉积
物理气相沉积技术主要包括高频溅射(RFS)、磁控溅射(MS)、离子束混合沉积(BIM)、分子束外延(MBE)、原子层外延(ALE)、离子束增强沉积(ED)、电子束辅助沉积(IBAD)、电子束蒸发(EB)、脉冲激光沉积 (PLD)、电子束物理气相沉积(EB-PVD)等。


物理气相沉积技术可用于制备氧化物、氮化物、碳化物的纳米涂层，也能沉积金属、化合物的多层或复合纳米涂层。制备的涂层附着力强，工件不受热变形，但其设备较昂贵，沉积效率低，不适宜制备厚涂层。